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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)-橢偏儀系列-光譜橢偏儀-ME-Mapping光譜橢偏儀
簡要描述:教學(xué)橢偏儀,Mapping系列光譜橢偏儀是全自動(dòng)高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,配置全自動(dòng)Mapping運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu),通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片的膜厚及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征。
產(chǎn)品型號: 更新時(shí)間:2024-07-04 瀏覽次數(shù):1949
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength有效保修
Valid Warranty質(zhì)量保障
Quality Assurance產(chǎn)品中心
PRODUCT CATEGORY詳細(xì)介紹
一、概述
ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,配置全自動(dòng)Mapping測量模塊,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征和分析。
■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案;
■ 支持產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及功能模塊定制化,一鍵繪制測量;
■ 配置Mapping模塊,全基片自定義多點(diǎn)定位測量能力;
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);
■ 高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置,實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集;
■ 具備全基片自定義多點(diǎn)自動(dòng)定位測量能力,提供全面膜厚檢測分析報(bào)告;
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料。
三、產(chǎn)品應(yīng)用
ME-Mapping廣泛應(yīng)用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。
可選配件
真空泵 | 透射吸附組件 |
技術(shù)參數(shù)
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